最近华为Mate40系列开始上市，很多人也感觉到了，不好买到，当然与上市初期抢购的人比较多有关，也有其他方面的因素，例如工厂需要时间加紧生产，这就会造成一个空档期，用户就需要稍等一些时间。此外，因为9月15日之后，台积电暂时无法为华为代工5纳米芯片，所以麒麟9000和麒麟9000E芯片的数量有限。
这就要说到芯片的生产环节，近期任正非也提到，华为设计的先进芯片，国内的基础工业无法造出。相信很多人也都了解，生产环节的问题，关键是光刻机的缺失，或者说是高端光刻机的缺失造成的。
前段时间中科院方面表示，将会把一批卡脖子的清单变成科研清单，其中也提到了光刻机，或许就是因为此，光刻机算是真正的进入了大家的视野，也开始了解到，一款先进工艺芯片的诞生，其实背后的努力并不简单。
但我想大家不了解的是，一款先进芯片得以成为现实，光刻机固然重要，但只有光刻机还是不足够的，光刻材料也很重要。
之前余承东说过几个根技术，其中提到了芯片的制造设备，这个就包含了光刻机，但还提到了芯片制造原材料，这其中就包括了至关重要的光刻胶。
近日，早在2004年就成立的上海新阳半导体材料股份有限公司发出公告宣布，拟定增募资不超过14.5亿元，扣除发行费用后拟将8.15亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目。
从成立时间上看，上海新阳算是我国老牌的光刻巨头了，目前市值过百亿，这次将光刻胶项目迈向高端，其实力度确实不小。
首先从投资的规模上就可以看出端倪，超过8亿元的投资只集中于光刻胶方面，看来上海新阳的决心很大。
不仅如此，根据媒体报道称，上海新阳已经购买了三台光刻机，其中一台已经在厂运行，当然，这也是为了光刻胶项目研发的需要。从投资设备的角度看，力度也确实很大。
同时我们也就可以看到，光刻胶的重要性，那么上面我们也提到了，光刻胶也是确保芯片得以实现的关键一环，那么这是为什么呢？
我们就拿EUV极紫外光刻技术来做说明，这样大家理解起来就更容易一些。
相信大家也知道，现在的光刻机已经逐步的从深紫外光刻技术升级到极紫外光刻技术，当然，这种升级是为了制造更先进工艺的芯片，主要是极紫外光的波长更短。
但只有光的改变是不行的，EUV其实是一个整体，极紫外光只是其中一部分，像光源功率、掩膜和光刻胶就是其他组成成员，他们与光刻机一起实现了EUV技术。
在实现EUV光刻机达到满意的生产效率上，光源功率是一个关键因素，但后来光刻胶开始成为更大的挑战，简单来说，就是由于量子非定域效应，EUV光刻胶会产生随机效应，这有可能会使得芯片因为一个触点通孔的缺陷而失效。
所以我们就看到，在中科院努力实现我国光刻机走向高端化的过程中，其实光刻胶也需要走向高端化。
部分朋友应该还记得，去年的时候，日本在断供韩国的半导体原材料上，也包括光刻胶，所以光刻胶，尤其是高端光刻胶，重要性即便是不如光刻机，也可以说仅次于光刻机了，对此大家怎么看呢，欢迎发表您的看法。
