提到芯片制造，就不得不说光刻机，因为光刻机是芯片制造的必要设备，相比芯片制造，光刻机制造技术难度更高。
数据显示，全球范围内的芯片制造企业少说也有几十家，其中，台积电和三星等厂商处于顶部，能够生产制造7nm以下的芯片，而其它厂商则是生产制造7nm以上的芯片。
但是，全球能够研发生产光刻机的厂商只有四家，而在四家企业中，三家企业都是研发制造中低端光刻机，目前只有ASML研发生产的光刻机占领了中高端市场。
据了解，目前ASML的光刻机主要分为两类，分别是DUV光刻机（深紫外光刻机）和EUV光刻机（极紫外光刻机），两者主要用途区别就是，前者能够生产7nm（含7nm）以上的芯片，后者则能够生产7nm以下的芯片，还是目前唯一能够生产7nm以下芯片的设备。
根据ASML发布的数据可知道，其在今年第三季度交付10 台 EUV 系统，并在本季度实现了 14 台系统的销售收入，因为安装还需要长达6个月的时间。
最主要的是，ASML 60%以上的EUV光刻机都是安装在中国，三年内预计超50台，这么多的EUV光刻机被中国台湾的台积电拿下的。
台积电也证明了这一点。
据悉，EUV光刻机是台积电从2019年开始大量安装的，预计到2021年底安装超50台EUV光刻机，而台积电之所以安装大量的EUV光刻机，目的就是保证在先进制程方面领先。
只有安装了大量的EUV光刻机，才能研发生产5nm、3nm等制程更先进的芯片，同时，每台EUV光刻机的产量有限，大量安装才能保证产能。
为了保证在先进制程方面保持领先，台积电董事会还通过一项新决议，将会投资151亿美元，从新进设备安装等六个方面保证台积电在先进制程方面的优势。
也是因为EUV光刻机重要，三星李在镕更是亲自前往荷兰ASML，协商购买更多EUV光刻机，从而保证三星先进制程芯片的良品率以及产能。
其实，中国一直都ASML最大的客户，数据显示，中国厂商（含台湾）给ASML贡献了约68%的营收，而三星则贡献了27%的营收。
也正是因为中国市场巨大，ASML在今年多次表态，将加速在中国市场布局。
另外，ASML还表示，向国内厂商出售DUV光刻机是不许可的，但ASML 必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。
最主要的是，ASML还表示，其对向中国出口光刻机是保持很开放态度的，对全球客户都一视同仁，只要是ASML能够提供的技术和设备，都会全力支持。
但是，由于美国的限制，ASML仅向中国台湾的台积电出售EUV光刻机，而国内其它厂商目前均没有安装EUV光刻机。
也就是说，一旦有了许可，国内其它厂商也能够购买、安装ASML的EUV光刻机。
国产光刻机技术也在快速突破
自从美国修改规则后，国内厂商就开始加速发展光刻机技术。
例如，国内顶尖机构将光刻机技术列为首要攻克技术问题；
华为预计在2年内投入80亿美元，研发相关光刻机技术，同时，华为还全面进入半导体领域，还要在终端制造方面突破技术瓶颈，其实暗指光刻机。
另外，消息称，上海微电子研发生产的14nm的光刻机，预计在2021年下线量产，而倪光南则表示，国内其实已经有了国产的14nm光刻机。
还有就是，国内厂商在蚀刻机、激光技术方面都已经实现了突破，这也为国产更先进的光刻机打下了基础，相信不久的未来，国内先进制程的光刻机就会下线、上市。
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